KM-600C匹配器單獨的控制系統，可以應用于任何射頻功率發(fā)生器?？商娲娮庸苁謩?dòng)匹配器用于真空鍍膜、等離子刻蝕、等離子清洗、物理氣象沉積，化學(xué)氣象沉積，磁控濺射，以及太陽(yáng)能制造設備PECVD等設備當中，主要功能是實(shí)現全自動(dòng)匹配，解決了現在國內真空鍍膜設備中的一個(gè)技術(shù)空缺；具有自動(dòng)，快速，可靠，高效，準確，節省人力和時(shí)間等特點(diǎn)?？蛇x的射頻系統檢測模塊可實(shí)時(shí)檢測出系統的正反功率、駐波比、射頻信號峰值電壓、電流、直流偏置電壓等，從而使您能夠發(fā)現并顯著(zhù)降低制程變化性。

優(yōu)勢

●性能安全可靠，長(cháng)時(shí)間工作穩定
●實(shí)時(shí)反射功率測量與控制
●優(yōu)化設計、安裝、使用與維修十分簡(jiǎn)便
●傳輸效率高，運行噪音小
●屏蔽效果好
●可外接匹配控制盒，與其他射頻功率發(fā)生器配合使用

特點(diǎn)

●加強了鍍膜與刻蝕工藝的控制
●優(yōu)化的匹配算法加速匹配時(shí)間
●最大限度地減少駐波比與反射功率
●嚴格的可靠性測試

使用參數：