1、靶材面積與承載功率范圍

　　(1) 圓形平面磁控靶功率密度范圍一般為1~25瓦/cm2。

　　(2)矩形平面磁控靶功率密度范圍一般為1~36瓦/cm2。

　　(3)柱狀磁控靶、錐形平面磁控靶(S槍)功率密度范圍一般為40~50瓦/cm2。

2、磁控靶實(shí)際承載功率

　　磁控靶的實(shí)際的承載功率除了與濺射工藝、薄膜的質(zhì)量要求等因數(shù)有關(guān)外，主要與靶的冷卻狀況和散熱條件密切相關(guān)。磁控靶按其冷卻散熱方式的不同，分為“靶材直接水冷卻”和“靶材間接水冷卻”兩種。

　　考慮到濺射靶長期使用老化后，其散熱條件變差;兼顧各種不同靶材材質(zhì)的散熱系數(shù)的不同，磁控靶的最終使用時的承載功率，直接水冷卻靶實(shí)際的承載最大功率可按略小于功率密度范圍的上限選取;間接水冷卻靶的實(shí)際承載最大功率可按功率密度范圍上限值的二分之一左右選取。

　　磁控靶材(主要是Cu，Ag，黃銅(Brass)和Al青銅(Al bronze) “自濺射”時，一般是選用經(jīng)過專門設(shè)計“靶材直接水冷卻”的磁控濺射靶。其最終使用時的承載功率，均需大于靶功率密度范圍的上限值(即>100W/cm2以上)。